电子工业，特别迅速发展的亚微米工艺对生产场所洁净车间度要求特别高。在对洁净度提出更高要求方面，电子工业是促进前进的动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定性因素。

技术越进步，尺寸就越小，如果落在集成电路上的粒子大于最小光刻尺寸的1%～2cVo，就会使集成电路成为废品。金属粒子、离子、细菌等都是产生废品的元凶。空气洁净度的好坏直接影响集成电路生产的成品率。

净室中的主要污染源通常是人，这是人的皮肤组织及人员的活动引起的。人皮肤的外由大小为1微米至数十微米的小片（鳞片）组成。这些鳞片不断地从皮肤表面脱落，IIF数日皮肤外表层即要完全更新。掉落下来的碎片变成更加微小的粒子。人在静止不分钟产生粒径为0.5微米及以上的粒子可达200000颗左右。人稍一活动和人体衣服童显著地增加粒子，每分钟可达数百万颗，当人进行剧烈运动时，则发散的分钟可达一千万颗左右，入每辱一三发散3.5公斤粒子，每天产生10克。

洁净室内穿着大褂和实验室工作服的人员在走动时向周围发散粒子的情况平均为亿万颗粒子，粒径在0.5微米及以上。

学鼻是粒子的发源地，在交谈时发散粒子很多，特别在大声谈话和叫喊时更多。

发散的粒子随着人们周围不断上升的自然对流气流，向房间的整个空间扩散，并掉落；材料、产品、围护结构和其它工作人员身上等。